Histomer Formula 201 Zinc-O Mask (Маска нормализующая Цинк-О), 250 мл
Код: | HIS201P15 |
---|---|
Производитель: | Histomer |
Косметическая линия: | Формула 201 - Пилинговые системы |
Проблема: | Загрязнения, закупоренные поры Жирность, жирный блеск Акне и постакне Застойные пятна |
Тип кожи лица: | Проблемная Жирная чувствительная Жирная |
Вид средства : | Маска |
Код: | HIS201P15 |
Производитель: | Histomer |
Косметическая линия: | Формула 201 - Пилинговые системы |
Проблема: | Загрязнения, закупоренные поры Жирность, жирный блеск Акне и постакне Застойные пятна |
Тип кожи лица: | Проблемная Жирная чувствительная Жирная |
Вид средства : | Маска |
Описание
Маска нормализующая Цинк-О бренда Histomer, cмягчающая и регенерирующая на основе стволовых клеток растений и оксида цинка моментально снимает покраснения и чувство дискомфорта, восстанавливает баланс жирной кожи или кожи, склонной к акне.
Способ применения
Нанести после очищения и тонизации кожи равномерно на лицо и шею. Смойте через 15-20 минут.
Состав
Оксид цинка, витамин Е, стволовые клетки сирени, экстракт серенои, фитостеролы, масла кунжута и арганы, лецитин, бисаболол.
Характеристики
Код: | HIS201P15 |
---|---|
Производитель: | Histomer |
Косметическая линия: | Формула 201 - Пилинговые системы |
Проблема: | Загрязнения, закупоренные поры Жирность, жирный блеск Акне и постакне Застойные пятна |
Тип кожи лица: | Проблемная Жирная чувствительная Жирная |
Вид средства : | Маска |
---|---|
Вид процедуры: | Устранение жирного блеска, матирование Лечение акне, угревой сыпи, комедонов Нормализация работы сальных желез Очищение, отшелушивание, снятие макияжа |
Тип маски: | Себорегулирующая маска |
Область применения: | Лицо |
Отзывы
Сертификаты и документы
На каждый продукт имеется сертификат качества. Как правило документы отправляются по запросу, так как на каждый бренд может быть более 30 страниц